회사소개
세메스는 연간 2조원 규모의 반도체/디스플레이/LED 전공정 및 후공정 핵심장비를 개발하는
국내 최대규모의 기업입니다.
세메스의 첨단기술력과 독자개발장비는 고객으로부터 품질을 인정받고 있으며,
제품경쟁력을 바탕으로 해외시장에서도 이미 핵심기업으로 평가받고 있습니다.
앞으로도 과감한 투자와 끊임 없는 연구개발 및 기술혁신을 통해
세메스는 전세계 장비시장을 선도해 나갈 것입니다.
인재상
1. 글로벌 (Global Standard)
글로벌 스탠다드를 이해하며, 다양한 문화 수용력으로 입체적인 행동을 하는 세계인
2. 전문가 (Professional)
끝없이 학습하며 새로움을 추구하는, 열린 사고를 가진 프로근성의 소유자
3. 리더십 (Change Leader)
기본과 도덕성을 바탕으로 변화를 주도하는 진취적인 개척자
연혁
2016. 연구소(경기도 화성) 설립
매엽식 세정설비 LOTUS 및 Saw&Sorter SW9000 개발
2015. 매엽식 세정설비 IRIS 1,000호기 출하
2014. 미국 뉴욕(Malta) 사무소 설립
Probe Station 1,000호기 출하
2013. 설비 3사 합병 (통합원년)
중국 서안 법인 설립
2011. 1억불 수출탑 및 지식경제부장관상 수상
LOZIX 대통령 표창
IRIS 단일제품 1조 매출 달성
MOCVD 설비 출하
2010. AFC(Air Floating Coater) 및 Inkjet Printing System 개발
고온 SPM 공정용 세정설비 BLUEICE SPM 및 초임계용 세정설비 SUPER CRYSTAL 개발
2009. Immersion Process용 Photo Track LOZIX high 출하
태양전지용 PE-CVD 설비 개발
2008. Display 세정장치 부문 세계시장 점유율 1위 달성
IRIS 단일제품 연매출 1,000억원 돌파 / Photo Track LOZIX 개발
2007. 200mm Single Wafer Cleaning Processor 개발 (IRIS8)
8세대 TFT-LCD 설비 출하 (Etcher/Stripper/Developer/Cleaner)
5세대 TFT-LCD 수출 (Stripper)
200mm/300mm HDP-CVD 및 300mm Dielectric Etcher 개발
상해사무소 설립 및 신공장 이전
2006. 300mm Single Wafer Cleaning Processor 개발 및 출하 (IRIS12)
8세대 TFT-LCD 설비 개발 (Etcher/Stripper/Cleaner/Developer)
Silicon Dispenser 개발 및 출하
2005. KDNS에서 SEMES로 사명변경
Spinner (Nano Spin 8/12) 국산화 개발 및 출하
1,000호기 설비출하 및 300mm Dry Etcher (Poly) 개발
2004. FPD사업장 준공 및 중국 북경사무소 설립
New Wet Station (OCEAN) 국산화 개발 출하
2002. SWP 3004 개발
2001. 300mm Scrubber, Wet Station, Spinner 국산화 개발 첫 출하
1999. 반도체사업장 준공
1998. K-WET300, K-SPIN8 국산화 개발
미국 현지법인 설립
1993. 회사설립
