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1)¿¬ºÀÀº ÃæºÐÈ÷ Á¦¾ÈÇϴ ȸ»çÀ̸ç, ¿¬ºÀ¿Ü¿¡
±âº» ¿¬ºÀ¿¡ 30% ¼º°ú±Þ º°µµ ÃÖ¼Ò 20%ÀÌ»ó Áö±Þ µÇ¸ç
2)ÀÔ»ç ÈÄ 1³âÀÌ Áö³ª¸é 2000¸¸¿ø »ó´çÀÇ ½ºÅå¿É¼Ç Áö±Þ / ¶ÇÇÑ 2³â¸¶´Ù ³»ºÎ Æò°¡¸¦ ÅëÇØ Ãß°¡ Áö±Þ
3)±Ù¼Ó 1³â ¹Ì¸¸ 50¸¸¿øºÎÅÍ, ±Ù¼Ó¿¬¼ö¿¡ µû¶ó 10¸¸¿ø¾¿ Áõ°¡)
4) ´ë±â¾÷¿¡ ÁØÇÏ´Â º¹¸® ÈÄ»ý
[Æ÷Áö¼Ç] ¹ÝµµÃ¼ Diffusion furance Àåºñ°ü¸® ¿£Áø´Ï¾î 5~15³â
[´ã´ç¾÷¹«]
¹ÝµµÃ¼ Diffusion furance Àåºñ°ü¸® ¿£Áø´Ï¾î 5~15
(Diffusion process: Wet &
Dry oxidation, Anneal)
Àåºñ Set-up ¹× À¯Áö°ü¸®
Àåºñ °³Á¾ ¹× °³¼±
Àåºñ ¿¹¹æÁ¤ºñ
»ý»ê ¹× Ç°Áú À¯Áö °ü¸®
[ÀÚ°Ý ¿ä°Ç]
Diffusion
oxidation/anneal Àåºñ ¿£Áö´Ï¾î °æ·Â 5³âÀÌ»ó
Diffusion Àåºñ (KE, TEL) & À¯Æ¿¸®Æ¼ ¿î¿µ °æÇèÀÚ ¿ì´ë
PECVD, LP-NIT,
POLY Àåºñ °ü¸® °æÇèÀÚ ¿ì´ë
¹ÝµµÃ¼ Àü°øÁ¤ Àåºñȸ»ç °æÇèÀÚ ¿ì´ë
Á¾ÇչݵµÃ¼ (»ï¼º, ÇÏÀ̴нº, DB, ¸Å±×³ªÄ¨µî) Çʵå Àåºñ°ü¸® °æÇèÀÚ ¿ì´ë
Àåºñ °³Á¶ ¹× °³¼± °æÇèÀÚ ¿ì´ë
¿µ¾î ¾÷¹« °¡´ÉÀÚ
[ȸ»ç À§Ä¡] ¿ëÀÎ
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