´ë±â¾÷ °è¿»ç 3°³ºÎ¹® °æ·ÂÁ÷ ä¿ë
¸ðÁýºÎ¹® ¹× ÀÚ°Ý¿ä°Ç
¸ðÁýºÎ¹® | ´ã´ç¾÷¹« | ÀÚ°Ý¿ä°Ç | Àοø |
---|---|---|---|
Wafer ¹Ý¼Û ·Îº¿ ¹× °æ·Î ¾ç»ê/°³¹ß/°³Á¶ ¼³°è | ¤ý°í¼Ó/Á¤¹Ð ·Îº¿ ¼³°è ¤ýWafer Grip ±â¼ú °³¹ß ¤ý±¸µ¿ºÎ ¸¶Âû, Áøµ¿ Á¦¾î ¼³°è ¤ý±â·ù Á¦¾î System ¼³°è | [ÀÚ°Ý¿ä°Ç] ¤ýÇз : ´ëÁ¹ ÀÌ»ó (4³â) | 0 ¸í |
ÇÁ·Î¼¼½º è¹ö °³¹ß | ¤ýWet °øÁ¤ Process è¹ö ¾ç»ê/°³¹ß/°³Á¶ ¼³°è - è¹ö, ³ëÁñ ±¸µ¿ºÎ ¼³°è - ¾×ü/±âü ºÐ¸® System ¼³°è - ³»ÈÇмÒÀç Àû¿ë ¼³°è - ±â·ù Á¦¾î System ¼³°è - °í¼Ó ȸÀü ±â±¸¹° ¼³°è - ¼³ºñ »óÅ Monitoring ¼¾¼ °³¹ß | [ÀÚ°Ý¿ä°Ç] ¤ýÇз : ´ëÁ¹(4³âÁ¦)ÀÌ»ó [¿ì´ë»çÇ×] | 0 ¸í |
¾à¾× °ø±Þ ±â¼ú °³¹ß | ¤ý ¾à¾× °ø±Þ °èÅë ¾ç»ê/°³¹ß/°³Á¶ ¼³°è - Pump, Heater, Valveµî ÇٽɺÎǰ ¼³°è - ¾à¾× °ø±Þ System ¼³°è - ³»ÈÇмÒÀç Àû¿ë ¼³°è - Fume¼º ±â·ù Á¦¾î ¼³°è - ·¹À̾ƿô ¹× ¹èÄ¡ ¼³°è |
[ÀÚ°Ý¿ä°Ç] ¤ý´ëÁ¹ (4³âÁ¦) ÀÌ»ó |
0 ¸í |
±Ù¹«Á¶°Ç
ÀüÇü´Ü°è ¹× Á¦Ãâ¼·ù
Á¢¼ö¹æ¹ý
2023-06-12 (¿ù) 23½Ã59ºÐ±îÁö
±âŸ À¯ÀÇ»çÇ×
00