1. ÁÖ¿ä¾÷¹« ¡Û ¿øÀç·á/Á¦Ç°/ºÎÀç·á ÀÔÃâ°í ¹× ¼öºÒ °ü¸® ¡Û â°í °ü¸® ¹× ¿î¼Û¾÷ü °ü¸® ¡Û Photoresist »ý»ê 2. ÀÚ°Ý¿ä°Ç ¡Û Çз : °íÁ¹ ÀÌ»ó ¡Û °æ·Â : ¹°·ù°ü¸® ¾÷¹« ¼öÇà ¹× Áö°ÔÂ÷ ¿îÇà 1³â ÀÌ»ó(Áö°ÔÂ÷ ¸éÇã Çʼö) 3. ¿ì´ë»çÇ× ¡Û MES, ERP »ç¿ë °¡´ÉÀÚ ¡Û ÀÚµ¿È­Ã¢°í(½º¸¶Æ®ÆÑÅ丮) ¿î¿µ ¹× ±¸Ãà °æÇè º¸À¯ÀÚ ¡Û Photoresist µî Chemical Á¦Á¶ °æ·ÂÀÚ Áö¿ø¼­ ³»¿ë Áß ÇãÀ§»ç½ÇÀÌ ÀÖ´Â °æ¿ì¿¡´Â ÇÕ°ÝÀÌ Ãë¼ÒµÉ ¼ö ÀÖ½À´Ï´Ù. ¼ºº°/º¸ÈÆ´ë»óÀÚ/Àå¾Ö ¿©ºÎ´Â ä¿ë °úÁ¤¿¡¼­ ¾î¶°ÇÑ ºÒÀÌÀ͵µ ¹ÌÄ¡Áö ¾Ê½À´Ï´Ù.