1. ÁÖ¿ä¾÷¹«
¡Û ¿øÀç·á/Á¦Ç°/ºÎÀç·á ÀÔÃâ°í ¹× ¼öºÒ °ü¸®
¡Û â°í °ü¸® ¹× ¿î¼Û¾÷ü °ü¸®
¡Û Photoresist »ý»ê
2. ÀÚ°Ý¿ä°Ç
¡Û Çз : °íÁ¹ ÀÌ»ó
¡Û °æ·Â : ¹°·ù°ü¸® ¾÷¹« ¼öÇà ¹× Áö°ÔÂ÷ ¿îÇà 1³â ÀÌ»ó(Áö°ÔÂ÷ ¸éÇã Çʼö)
3. ¿ì´ë»çÇ×
¡Û MES, ERP »ç¿ë °¡´ÉÀÚ
¡Û ÀÚµ¿Èâ°í(½º¸¶Æ®ÆÑÅ丮) ¿î¿µ ¹× ±¸Ãà °æÇè º¸À¯ÀÚ
¡Û Photoresist µî Chemical Á¦Á¶ °æ·ÂÀÚ
Áö¿ø¼ ³»¿ë Áß ÇãÀ§»ç½ÇÀÌ ÀÖ´Â °æ¿ì¿¡´Â ÇÕ°ÝÀÌ Ãë¼ÒµÉ ¼ö ÀÖ½À´Ï´Ù.
¼ºº°/º¸ÈÆ´ë»óÀÚ/Àå¾Ö ¿©ºÎ´Â ä¿ë °úÁ¤¿¡¼ ¾î¶°ÇÑ ºÒÀÌÀ͵µ ¹ÌÄ¡Áö ¾Ê½À´Ï´Ù.