[ ä¿ë»ç ]
- ±¹³»ÃÖ°í±×·ì °è¿»ç, Á¾ÇÕ»ó»ç, °æ¿µ¼º°ú ¿ì¼ö ¹× ¼º°ú±Þ ¿ì¼ö °è¿»ç
- ä¿ë ±Ù¹«Áö: ¼¿ï Áß±¸
- ä¿ëÁ÷±Þ: ´ë¸®/°úÀå/Â÷Àå±Þ ¼±È£
[ ´ã´ç¾÷¹« ]
* È£ÁÖ ½ÃÀåÀÇ Å¾籤, Battery Energy Storage System(BESS), ž籤+BESS »ç¾÷ °³¹ßÀÌ ÁÖ¿ä ¾÷¹«À̸ç, ¼ÛÀü¸Á °èÅë, BESS ÀÇ Çϵå¿þ¾î ¶Ç´Â ¼ÒÇÁÆ®¿þ¾îÀû ±â¼úÀû ÀÌÇظ¦ ¹ÙÅÁÀ¸·Î ½Å±Ô»ç¾÷ °³¹ßÀ» ÇÒ ÀÎÀ縦 ã°í ÀÖ½À´Ï´Ù.
1) ž籤, BESS ½Å±Ô»ç¾÷°³¹ß
- »ç¾÷±âȹ: È£ÁÖÀÇ °èÅëÀû Ư¼º, ¿¡³ÊÁö Á¤Ã¥ ¹× Á¤ºÎ °èȹÀ» ºÐ¼®ÇÏ¿© ž籤, BESS »ç¾÷ °èȹ ¼ö¸³
- »ç¾÷°³¹ß: High-Level °èÅë/ȯ°æ À̽´ Screening ÅëÇÑ ÀûÁ¤Áö¿ª ¼±Á¤ ý ÃÖÀû ºÎÁö È®º¸
2) °³¹ß/°èÅë ÀÎÇã°¡ ÁøÇà
- °èÅë : °èÅë ÀÎÇã°¡ È®º¸ À§ÇÑ Connection Study ¼öÇà ¹× ÀÏÁ¤ °ü¸®
- ÀÎÇã°¡ : °³¹ß ÀÎÇã°¡ È®º¸ À§ÇÑ ÀÚ¹®»ç¿Í EIS Study ¼öÇà ¹× ÀÏÁ¤ °ü¸®
3) »ç¾÷¸Å°¢
- ÀáÀç ¼ö¿äó ¹ß±¼ ¹× »ç¾÷±âȸ âÃâ À§ÇÑ Á¦¾È¼ ÀÛ¼º
- ÁÖ¿ä °è¾à¼(EPC/O&M/Offtake) °ËÅä ¹× Çù»ó
- In-house À繫¸ðµ¨ ÅëÇÑ »ç¾÷¼º ¹× ¹Î°¨µµ ºÐ¼® ¼öÇà
[ ÀÚ°Ý¿ä°Ç ]
1) Á÷¹« °æÇè
- À¯°ü ¾÷¹« ÃÖ¼Ò 5 ³â ÀÌ»ó
- È£ÁÖ ½ÅÀç»ý »ç¾÷°³¹ß °æÇèÀÚ ¿ì´ë (¹Ì±¹/¿µ±¹ °¡´É)
- ½ÅÀç»ý ¹× BESS ºÐ¾ß »ç¾÷°³¹ß, ¸Å°¢, °ø»ç/¿î¿µ/½Ã¿îÀü°æÇèÀÚ È¤Àº °¡´ÉÇÑ ÀÚ
- BESS System Integrator Ãâ½Å ȤÀº »ç¾÷°³¹ß °æÇè 5 ³â ÀÌ»ó ¼±È£
- Ä¿¹Â´ÏÄÉÀÌ¼Ç ´É·ÂÀÌ ¿ì¼öÇÏ¸ç ºñÁî´Ï½º ¿µ¾î È¸È ¿ì¼öÀÚ
- ÇØ¿Ü ÃâÀå ¹× ÇöÀå »óÁÖ °æÇèÀÚ (ȤÀº °¡´ÉÇÑ ÀÚ)
- ±¹³»¿Ü À¯°ü ¼±Áø»ç Ãâ½Å Àη ¿ì´ë
2) Á÷¹« Áö½Ä
- Àü·Â °èÅë¿¡ ´ëÇÑ ÀÌÇØ º¸À¯ÀÚ ¼±È£
- ºÎÁö°è¾à/EPC/PPA °è¾à ±¸Á¶ ÀÌÇØ
- ÇÁ·ÎÁ§Æ® ÀÏÁ¤ ¸Å´ÏÁö¸ÕÆ® êó°æÇèÀÚ ¼±È£
- BESS ÀÇ ´Ù¾çÇÑ Application ¹× »ç¾÷°³¹ß ÇÁ·Î¼¼½º¿¡ ´ëÇÑ Áö½Ä(±âÃÊ BESS Sizing ¹× »ç¾÷¼º ºÐ¼® °¡´ÉÀÚ ¼±È£)
3) Çʼö¿ª·®/¼ºÇâ
- ¿µ¾î ÀÇ»ç¼ÒÅë °¡´ÉÇÑ ÀÚ
- È£ÁÖ/¹Ì±¹/¿µ±¹ ½ÅÀç»ý »ç¾÷°³¹ß ¹× ÇöÀå °æÇè ¼±È£Çϸç, Á÷Á¢ ÇÁ·ÎÁ§Æ® °³¹ß ¹× ¼º°ø °æÇè º¸À¯ÀÚ ¼±È£
- È£ÁÖ Àå±â ÃâÀå ¹× Ã¼·ù¿¡ °á°Ý »çÀ¯°¡ ¾ø´Â ÀηÂ
[ÀýÂ÷]
¼·ù,¸éÁ¢
[Á¦Ãâ¼·ù]
- ±¹¹® À̷¼, ÇöÀ翬ºÀ Á¤º¸ ±âÀç, ÀÚ°ÝÁõ±âÀç, ¿µ¾î Á¡¼ö ±âÀç
- À̸ÞÀÏ ¼ÛºÎó : ******@*******.***
[¹®ÀÇ»çÇ×]
- ±èÁعü ÀÌ»ç : ***-****-**** (ÈÞÀÏ ÅëÈ °¡´ÉÇÕ´Ï´Ù.)