¿À½º ÁÖ½Äȸ»ç
¿À½º(ÁÖ) ¹ÝµµÃ¼ Àåºñ¼³°è °æ·Â»ç¿ø ä¿ë
¸ðÁýºÎ¹® ¹× ÀÚ°Ý¿ä°Ç
¸ðÁýºÎ¹® | ´ã´ç¾÷¹« | ±Ù¹« Á¶°Ç | Àοø |
---|---|---|---|
Àåºñ ¼³°è (ÆÀÀå) |
[´ã´ç¾÷¹«] ¹ÝµµÃ¼ Àü°øÁ¤ Àåºñ (Deposition, Etching) ±â±¸ ¼³°è
ÇÁ·ÎÁ§Æ®
¼³°è ÀÏÁ¤ °ü¸® ¹× ¼³°èÆÀ ¿î¿µ [ÀÚ°Ý¿ä°Ç] Sputter, CVD, Etcher Àåºñ ¼³°è °æ·Â 4³â ÀÌ»ó [¿ì´ë»çÇ×] ¹ÝµµÃ¼
Àü°øÁ¤ Àåºñ
°³¹ß °æ·Â ÇÁ·ÎÁ§Æ®
¸®µù ¹× ÆÀ ¿î¿µ °æ·Â |
[±Þ¿©] ÇùÀÇ ÈÄ °áÁ¤ [±Ù¹«Áö] ±¤¸í SK Å×Å©³ëÆÄÅ© | 0 ¸í |
Çз ¿ÏÀü ¹«°ü, 100% ½Ç·Â ¿ì´ë | |||
º¹Áö
00