¹ÝµµÃ¼¿ë Photo Resist °³¹ß ¿¬±¸¿ø ¸ðÁý
Çʼö È®ÀÎ Á¤º¸ ä¿ë ±â¾÷ SK¸ÓƼ¸®¾óÁî ÆÛÆ÷¸Õ½º ä¿ë À¯Çü °æ·Â ¸ðÁý Àοø 0¸í ±Ù¹« Áö¿ª ¼¼Á¾ ¸ðÁý Á÷¹« ¼ÒÀç±â¼ú Á¢¼ö ±â°£ 2024.11.04 00:00 ~ 2024.11.10 23:59 °í¿ë ÇüÅ Á¤±ÔÁ÷ ÁÖ¿ä ¾÷¹« 1. ÁÖ¿ä¾÷¹« - ¹ÝµµÃ¼¿ë Photo Resist °³¹ß(ArF/EUV) : Photo Resist Á¶¼º ¼³°è ¹× ÇÙ½É ¿øÀç·á(Resin/PAG µî) ±¸Á¶ Design : Litho Æò°¡ DOE ¼ö¸³ / Æò°¡ Data Çؼ® / Trouble-Shooting : Á¦Ç° °³¹ß °ü·Ã °í°´»ç ±â¼ú Áö¿ø(ºÒ·® ¿øÀÎ ºÐ¼® µî) 2. ÀÚ°Ý¿ä°Ç - ¼®»ç ÀÌ»ó - Àç·á, È­ÇÐ, °íºÐÀÚ, È­ÇаøÇÐ °è¿­ Àü°øÇϽŠºÐ - °ü·Ã °æ·ÂÀ» 4~12³â º¸À¯ÇϽŠºÐ 3. ¿ì´ë»çÇ× - ¹ÝµµÃ¼¿ë Photo Resist °³¹ß °æ·Â ¶Ç´Â ¿øÀç·á °³¹ß °æ·Â º¸À¯ÇϽŠºÐ 4. ±Ù¹«Áö : ¼¼Á¾ ¡Ø Áö¿ø¼­ ³»¿ë Áß ÇãÀ§»ç½ÇÀÌ ÀÖ´Â °æ¿ì¿¡´Â ÇÕ°ÝÀÌ Ãë¼ÒµÉ ¼ö ÀÖ½À´Ï´Ù. ¡Ø ¼ºº°/º¸ÈÆ´ë»óÀÚ/Àå¾Ö ¿©ºÎ´Â ä¿ë °úÁ¤¿¡¼­ ¾î¶°ÇÑ ºÒÀÌÀ͵µ ¹ÌÄ¡Áö ¾Ê½À´Ï´Ù. ¿µÀÔ °úÁ¤ (ÀüÇü ´Ü°è) °ø°íÁ¢¼ö ¼­·ùÀüÇü SKCT 1Â÷ ¸éÁ¢ 2Â÷ ¸éÁ¢ ÃÖÁ¾ÇÕ°Ý