[°æ·Â] R&D_ƯÇã°³¹ß
| ´ã´ç ¾÷¹«
1. ±¹³»¿Ü ƯÇã Ãâ¿ø¼ ÀÛ¼º ¹× µî·Ï
2. ƯÇã Àü·« ¼ö¸³
3. ƯÇã µ¥ÀÌÅÍ °ü¸® ¹× ÇÁ·Î¼¼½º °ü¸®
| Áö¿ø ÀÚ°Ý
[Çʼö ÀÚ°Ý]
1) ƯÇã °ü·Ã ºÐ¾ß¿¡¼ 3³â ÀÌ»ó °æ·Â º¸À¯ (ƯÇã»ç¹«¼Ò, ±â¾÷ ƯÇãÆÀ µî)
2) ±¹³»¿Ü ƯÇã Ãâ¿ø ¹× µî·Ï ¾÷¹« °æÇè
3) ¿µ¾î ´ÉÅëÀÚ (ƯÈ÷ ƯÇã °ü·Ã ¹®¼ ÀÛ¼º ¹× °ËÅä ´É·Â)
[¿ì´ë »çÇ×]
1) ƯÇã °ü¸® ½Ã½ºÅÛ(Patent Management System) »ç¿ë °æÇè
2) ¼±ÇàƯÇã Á¶»ç ºÐ¼® ¾÷¹« °æÇè
| ±Ù¹« Á¶°Ç
1. ±Ù¹«ÀϽà : ÁÖ 5ÀÏ(¿ù~±Ý) 8½Ã ~ 17½Ã
2. ±Ù¹«ÇüÅ : Á¤±ÔÁ÷
3. ±Ù¹«Àå¼Ò
- Çѱ¹Å¸À̾î¾ØÅ×Å©³î·ÎÁö Å×Å©³ëµ¼ (´ëÀü±¤¿ª½Ã À¯¼º±¸ À¯¼º´ë·Î 935¹ø±æ 50)