Plasma Áø´Ü ½ÅÀÔ/°æ·Â»ç¿ø ¸ðÁý
❖ ÁÖ¿ä ¾÷¹« Plasma Áø´Ü Sensor °³¹ß ¹× Æò°¡ Plasma Source °³¹ß »êÇÐ Çùµ¿À» ÅëÇÑ Data Base È®Àå Chamber Áø´Ü ±â¼ú °³¹ß Plasma Simulation ❖ ÀÚ°Ý ¿ä°Ç(Çʼö) Çз : ¼®»ç ÀÌ»ó ¡æ ¹°¸®ÇÐ/Àç·á°øÇÐ/È­ÇаøÇÐ Àü°øÀÚ °æ·Â : ¹«°ü ❖ ¿ì´ë »çÇ× Plasma °øÁ¤ °æÇè - Plasma Etch, PECVD, PEALD, Plasma Source ¼³°è, ÃÖÀûÈ­ ¹× °øÁ¤ º¯¼ö ºÐ¼® ´É·Â, Plasma ±â¹Ý °øÁ¤¿¡¼­ ¹ÝÀÀ mechanism ¹× ¹Ú¸· Çü¼º ÀÌÇØ Plasma Áø´Ü ¹× ÃøÁ¤ - Plasma Áø´Ü Àåºñ (Langmuir Probe, OES, RF Impedance Analyzers.. Etc) °ü·Ã °æÇè, Plasma Density, Electron Temperature, Plasma ÀüÀ§ ºÐ¼® ´É·Â, Plasma ºÒ±ÕÀϼº ¹× °áÇÔ ¿øÀÎ ºÐ¼® °æÇè Plasma Simulation & ºÐ¼® °æÇè - Plasma Simulation S/W(MATLAB, COMSOL, Ansys, CST µî) »ç¿ë ´É·Â ¹ÝµµÃ¼ °øÁ¤ ½Ã¹Ä·¹ÀÌ¼Ç ¹× µ¥ÀÌÅÍ ºÐ¼® °æÇè ÇöóÁ ±â¹Ý ¹ÝµµÃ¼ Àåºñ ¼³°è °æÇè ¹ÝµµÃ¼ Á¦Á¶»ç ¶Ç´Â Àåºñ °ø±Þ¾÷ü ¿¡¼­ÀÇ ÀÎÅÏ/±Ù¹« °æÇè ÃֽŠÇöóÁ °øÁ¤ ¹× ¹ÝµµÃ¼ ±â¼ú Æ®·»µå¿¡ ´ëÇÑ ÀÌÇØ °ü·Ã ³í¹® ÃâÆÇ ½ÇÀû ¹× ƯÇã Ãâ¿ø °æÇè ❖ ±Ù¹«Áö °æ±âµµ ¿ëÀνà óÀα¸ ¾çÁö¸é Áߺδë·Î 2374-36, TES º»»ç