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Çʼö : SiC CVD, SiC Epitaxy, SiC Single Crystal Growth, SiC´Ü°áÁ¤ °¡°ø,
Silicon ¹× Ÿ ´Ü°áÁ¤ °¡°ø, HTCVD
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QI(Ç°Áú°³¼±) ¾÷¹«
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¡Ø 2025³â ½ÅÀÔ ¹× °æ·Â ºÎ¹®º° ä¿ë ÁøÇà ÀÏÁ¤
1) ¼·ùÁ¢¼ö : 2025.03.11(È) ~ 03.18(È)
2) ¼·ùÆò°¡ : 2025.03.19(¼ö) ~ 03.20(¸ñ) ¼ö½Ã Æò°¡ ÁøÇà
3) ¸éÁ¢¾È³» : 2025.03.21(±Ý) ~
4. ¸éÁ¢ÀýÂ÷
1) »ç¹«Á÷ : ¼·ùÁ¢¼ö ¡æ ¼·ùÆò°¡ ¡æ 1Â÷ ¸éÁ¢(È»ó ¶Ç´Â ´ë¸é¸éÁ¢) ¡æ 2Â÷ ¸éÁ¢(´ë¸é¸éÁ¢)¡æ ä¿ë Àü °ËÁø ¡æ ÃÖÁ¾ ÇÕ°Ý
2) »ý»êÁ÷ : ¼·ùÁ¢¼ö ¡æ ¼·ùÆò°¡ ¡æ 1Â÷ ¸éÁ¢(È»ó ¶Ç´Â ´ë¸é¸éÁ¢) ¡æ ä¿ë Àü °ËÁø ¡æ ÃÖÁ¾ ÇÕ°Ý
¡Ø ¸éÁ¢ ¾È³»´Â ¼·ù ÇÕ°ÝÀÚ¿¡ ÇÑÇÏ¿© °³º° ¾È³» ¿¹Á¤À̸ç, ä¿ë ÁøÇà ÀÏÁ¤Àº ´ç»ç »ç³» ÀÏÁ¤À¸·Î ÀÎÇØ º¯°æµÉ ¼ö ÀÖ½À´Ï´Ù.