[´ë±â¾÷ ¹ÝµµÃ¼È¸»ç]
SOI-BCD °øÁ¤/¼ÒÀÚ °³¹ß(°æ·Â)
´ã´ç¾÷¹« | ÀÚ°Ý¿ä°Ç | Àοø |
---|---|---|
[´ã´ç¾÷¹«] - SOI wafer±â¹Ý BCD process integration - SOI wafer±â¹Ý BCD ¼ÒÀÚ °³¹ß- SOI wafer±â¹Ý BCD ¼ÒÀÚ characterization [±Ù¹«ºÎ¼ ¹× Á÷±Þ/Á÷Ã¥]
|
[ÀÚ°Ý¿ä°Ç] - ÇзÂ: ¼®»çÀÌ»ó - SOI wafer±â¹Ý BCD °øÁ¤ ¶Ç´Â ¼ÒÀÚ°³¹ß °æ·Â: 5³âÀÌ»ó
[¿ì´ë»çÇ×]
[±Ù¹«Áö] ÃæºÏ À½¼º
|
1 ¸í |
±Ù¹«Á¶°Ç
ÀüÇü´Ü°è ¹× Á¦Ãâ¼·ù
Á¢¼ö¹æ¹ý
2025³â 04¿ù 13ÀÏ ~ ä¿ë½Ã ¸¶°¨
±âŸ À¯ÀÇ»çÇ×