[´ë±â¾÷ ¹ÝµµÃ¼È¸»ç]
Capacitor & Diode ¼ÒÀÚ°³¹ß(°æ·Â)
´ã´ç¾÷¹« | ÀÚ°Ý¿ä°Ç | Àοø |
---|---|---|
[´ã´ç¾÷¹«] - ½ÃÀå ¹× °í°´ÀÇ ¿ä±¸ »çÇ׿¡ ¸Â´Â Capacitor & Diode ¼ÒÀÚ¸¦ °³¹ß - High-k material À» ÀÌ¿ëÇÑ Porcess IntegrationÀ» ±¸¼º - Á¦Ç° ±¸ÇöÀ» À§ÇÑ Æò°¡ TEG ¸¦ °³¹ßÇϰí, Æò°¡°á°ú¸¦ ºÐ¼® - C-V, I-V ÃøÁ¤À¸·Î ½ÇÇè °á°ú¸¦ ºÐ¼® ºÐ¼®À» ÁøÇà [±Ù¹«ºÎ¼ ¹× Á÷±Þ/Á÷Ã¥]
|
[ÀÚ°Ý¿ä°Ç] - ÇзÂ: ÇлçÀÌ»ó - °æ·Â: 4³âÀÌ»ó, ¹Ú»ç(Á¹¾÷¿¹Á¤ÀÚ Æ÷ÇÔ): °æ·Â¹«°ü - Capacitor/ Diode ¼ÒÀÚ, ¹ÝµµÃ¼ 8´ë °øÁ¤¿¡ ´ëÇÑ ÀÌÇØ º¸À¯ÀÚ
[¿ì´ë»çÇ×] - high-k ALD Process Integration À¯°æÇèÀÚ - DRAM Capacitor °øÁ¤ ¼³°è ¹× °³¹ß À¯°æÇèÀÚ - MIM Capacitor ¿¡ ´ëÇÑ Characterization Àü¹®°¡ - Data ºÐ¼®À» À§ÇÑ ¿¢¼¿ ¹× ppt ¹®¼ ÀÛ¼º ¿ª·® º¸À¯ÀÚ
[±Ù¹«Áö] ÃæºÏ À½¼º [±âŸ»çÇ×] - Á÷¹«º° ±¸Ã¼ÈµÈ ÁÖ¿ä¾÷¹« µ¶ÀÚ ¼öÇà ¹× ¸®µù °¡´ÉÇÑ Àü¹®Àη |
1 ¸í |
±Ù¹«Á¶°Ç
ÀüÇü´Ü°è ¹× Á¦Ãâ¼·ù
Á¢¼ö¹æ¹ý
2025³â 08¿ù 12ÀÏ ~ ä¿ë½Ã ¸¶°¨
±âŸ À¯ÀÇ»çÇ×