[±Û·Î¹ú žƼ¾î ¹ÝµµÃ¼ ±â¾÷]
Contamination Control (ÇØ¿Ü ±Ù¹«)
*°æ·ÂÀÌ JD¿Í Á¤È®È÷ ÀÏÄ¡ÇÏÁö ¾Ê´õ¶óµµ ºñ½ÁÇÑ °æ¿ì Áö¿ø °¡´É
¸ðÁýºÎ¹® ¹× ÀÚ°Ý¿ä°Ç
¸ðÁýºÎ¹® | ´ã´ç¾÷¹« | ÀÚ°Ý¿ä°Ç | Àοø |
---|---|---|---|
Contamination Control |
[´ã´ç¾÷¹«] Material & Process contamination control |
[ÀÚ°Ý¿ä°Ç] - ÈÇÐ ¶Ç´Â ÈÇаøÇÐ ¼®»ç/¹Ú»ç ÇÐÀ§ ¹× 8³â ÀÌ»ó °ü·Ã °æ·Â - ¿À¿° °ü¸®, AMC, FOUP °ü¸®, ¹°Áú ¹æ¾î Àü·«¿¡ ´ëÇÑ ÅºÅºÇÑ Áö½Ä - ¾÷¹«»ó ÇÊ¿äÇÑ ¿µ¾î ¼ÒÅë ´É·Â Çʼö - ±Û·Î¹ú ÆÀ ¸®µù ´É·Â - ÇÁ·Î¼¼½º ÅëÇÕ, ǰÁú ½Ã½ºÅÛ, »ý»ê ¿î¿µ, Á¶´Þ µî°ú ¿øÈ°ÇÑ Çù¾÷ ´É·Â [¿ì´ëÁ¶°Ç] - photo resist °ü·Ã °æ·Â |
0 ¸í |
±Ù¹«Á¶°Ç
ÀüÇü´Ü°è ¹× Á¦Ãâ¼·ù
Á¢¼ö¹æ¹ý
ä¿ë½Ã
±âŸ À¯ÀÇ»çÇ×
00