Çʼö È®ÀÎ Á¤º¸
ä¿ë ±â¾÷
SK¸ÓƼ¸®¾óÁî ÆÛÆ÷¸Õ½º
ä¿ë À¯Çü
½ÅÀÔ/ÀÎÅÏ
¸ðÁý Àοø
0¸í
±Ù¹« Áö¿ª
¼¼Á¾
¸ðÁý Á÷¹«
¼ÒÀç±â¼ú
Á¢¼ö ±â°£
2026.04.09 09:00 ~ 2026.04.21 18:00
°í¿ë ÇüÅÂ
Á¤±ÔÁ÷
ÁÖ¿ä ¾÷¹«
1. ÁÖ¿ä ¾÷¹«
[¹ÝµµÃ¼¿ë Photo Resist °³¹ß]
- Á¶¼º ¼³°è ¹× ÇÙ½É ¿øÀç·á(Resin/PAG µî) ±¸Á¶ Design
- Litho Æò°¡ DOE ¼ö¸³ / Æò°¡ Data ÇØ¼® / Trouble-Shooting
- Á¦Ç°°³¹ß °ü·Ã °í°´»ç ±â¼ú Áö¿ø(ºÒ·® ¿øÀÎ ºÐ¼® µî)
2. Áö¿øÀÚ°Ý (Qualification)
- Çз : ¼®»ç ÀÌ»ó
- Àü°ø : ÈÇÐ, Àç·á, °íºÐÀÚ °è¿ Àü°ø
3. Çʼö¿ª·® (Required Skill)
[À¯±âÈÇп¡ ´ëÇÑ ±âº» ÀÌÇØ]
: À¯±âÈÇÕ¹° ¹× ºÐÀÚ °£ »óÈ£ÀÛ¿ëÀ» ÀÌÇØÇϰí, ±¸Á¶–¹°¼º–¼º´É °£ °ü°è¸¦ ÈÇÐÀûÀ¸·Î ¼³¸íÇÒ ¼ö ÀÖ´Â Çй®Àû Áö½Ä
[ÇÙ½É ¿øÀç·á ±¸Á¶ ¼³°è¿¡ ´ëÇÑ ÀÌÇØ]
: ¸ñÇ¥ ¹°¼º È®º¸¸¦ À§ÇØ ÇÙ½É ¿øÀç·á¸¦ ¼³°èÇϰí, ÃÖÀûÈµÈ ±¸Á¶ È帱ºÀ» µµÃâÇÏ¿© °³¹ß ¹æÇ⼺À» Á¤ÀÇÇÏ´Â ±â¼ú
[¼ÒÀç ºÐ¼®/°ËÁõ¿¡ ´ëÇÑ ÀÌÇØ]
: ¿øÀç·áÀÇ ¹°¼º ¹× ±¸Á¶ µ¥ÀÌÅ͸¦ ÇØ¼®Çϰí, ½Å±Ô ºÐ¼®¹ýÀ» °³¹ß¡¤Àû¿ëÇÏ¿© ¾ç»ê ÀûÇÕ¼ºÀ» °ËÁõ ¹× ÆÇÁ¤ÇÏ´Â ±â¼ú
[AI µµ±¸ Ȱ¿ë¿¡ ´ëÇÑ Áö½Ä ¹× ¼ö¿ëµµ]
: »ý¼ºÇü AI µµ±¸¸¦ Ȱ¿ëÇÏ¿© Á¤º¸¸¦ Ž»ö¡¤Á¤¸®¡¤ºÐ¼®ÇÏ°í ¿¬±¸°³¹ß ¾÷¹« È¿À²À» ³ôÀÏ ¼ö ÀÖ´Â ¿ª·® ¹× ŵµ
4. ¿ì´ë»çÇ× (Preferred Qualification)
- Photo Resist ¶Ç´Â ¹ÝµµÃ¼ ¼ÒÀç °³¹ß °æÇè º¸À¯ÀÚ
- Lithography Æò°¡ ¶Ç´Â DOE ¼³°è °æÇè º¸À¯ÀÚ
- µ¥ÀÌÅÍ ºÐ¼®À» ÅëÇØ ¿¬±¸°³¹ß °úÁ¦ÀÇ ÀλçÀÌÆ®¸¦ µµÃâÇÑ °æÇè º¸À¯ÀÚ
5. ±Ù¹«Áö
- ¼¼Á¾
* Áö¿ø¼ ³»¿ë Áß ÇãÀ§»ç½ÇÀÌ ÀÖ´Â °æ¿ì¿¡´Â ÇÕ°ÝÀÌ Ãë¼ÒµÉ ¼ö ÀÖ½À´Ï´Ù.
* ¼ºº°/º¸ÈÆ´ë»óÀÚ/Àå¾Ö ¿©ºÎ´Â ä¿ë °úÁ¤¿¡¼ ¾î¶°ÇÑ ºÒÀÌÀ͵µ ¹ÌÄ¡Áö ¾Ê½À´Ï´Ù.