¹ÝµµÃ¼ Àåºñ °³¹ß [Á¦¾î / SW / ÇöóÁ]

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2026³â 1ºÐ±â ¿¬°á ±âÁØ ¸ÅÃâ¾× 1,019¾ï ¿øÀ¸·Î Áý°èµÇ¾î Àü³â µ¿±â ´ëºñ 23% ¼ºÀå

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¼³ºñ °³¹ß:Á¦Á¶ ¹×Set Up
ÀÚ°Ý¿ä°Ç
Çлç- °ü·ÃºÐ¾ß °æ·Â 3³âÀÌ»ó
Àü°ø- Àü±â/ÀüÀÚ °øÇÐ °ü·Ã Àü°øÀÚ
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¡î e-Plan¼³°èToolȰ¿ë
¡î¹ÝµµÃ¼, Display, Solar CellÀåºñ °æ·Â
¡îÀü±â °ü·Ã ÀÚ°ÝÁõ
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2. SW °³¹ßÆÀ 

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¡î¹ÝµµÃ¼ Àåºñ ½Ã½ºÅÛSW Framework¼³°è,°³¹ß

¡î°øÁ¤ ·¹½ÃÇÇ(Recipe)°ü¸® ¹× ½ÃÄö½º(Sequence)Á¦¾î ·ÎÁ÷ ±¸Çö

¡îÅë½Å Driver (Ethernet, Serial) &Àåºñ Á¦¾îFunction °³¹ß

¡îÀåºñ Simulation Test¹× Trouble Shooting


ÀÚ°Ý¿ä°Ç

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ÀüÀÚ°øÇаú,¹ÝµµÃ¼°øÇаú¿ÜIT°è¿­ Çаú


¡î C, C++, C#°³¹ß ´ÉÅëÀÚ(OOP°³³ä Çʼö)

¡î SW¾ÆÅ°ÅØÃ³ ¼³°è ¹× ±¸Çö(UML)

¡î RDBMS ¼³°è/°³¹ß °¡´É(MS-SQL, Postgre SQL, ¡¦)

¡î¹ÝµµÃ¼ Àåºñ Á¦¾îSW°³¹ß °æÇèÀÚ

¡î GUI°³¹ß °æÇè(WPF, WinFormsÇʼö)


¿ì´ë»çÇ×

µ¿Á¾¾÷°è ¿ì¼± ä¿ë

¡î EasyCluster Framework°³¹ß °æÇèÀÚ

¡î WCF°³¹ß °¡´É

¡î SECS/GEMÅë½Å(Semi Spec)°³¹ß °¡´É

¡î AI(ºòµ¥ÀÌÅÍ,¸Ó½Å·¯´×)°³³ä ÀÌÇØ&°³¹ß °æÇèÀÚ

¡î¿µ¾î ¼ÒÅë °¡´ÉÀÚ

[±Ù¹«Áö] ¿ëÀÎ(¾çÁö) OR µ¿Åº

 


3. ÇöóÁ Á¦Ç° °³¹ßÆÀ 

´ã´ç¾÷¹«
-. Plasma, Radical Source¹×RF°ü·Ã ºÎǰ °³¹ß
-. Plasma Diagnostics
-. Matching Network ¹× Matching Window
-. ICP / CCP°ü·ÃPlasma Simulation ( Plasma Parameter¹× °Åµ¿)
-. PEALD : Remote Plasma¸¦ ÀÌ¿ëÇÑThin FilmÁõÂø
-. Plasma Treatment : ICP¸¦ ÀÌ¿ëÇÑ Plasma Nitridation
-. Plasma Oxidation : RadicalÀ» ÀÌ¿ëÇÑOxidation¸· ÁõÂø
-. Plasma Doping : CCP¸¦ ÀÌ¿ëÇÑ Ion Energy Control


ÀÚ°Ý¿ä°Ç
¼®,¹Ú»ç - °ü·ÃºÐ¾ß °æ·Â 3³âÀÌ»ó
¼¼ºÎÀü°ø
-¹°¸®ÇÐ ¶Ç´Â Àü±â,ÀüÀÚ( Plasma°ü·Ã Çаú)
-. Plasma Application
-. Plasma Simulation
-.±âº»ÀûÀÎPlasmaÀÌÇØ
-. PlasmaÇØ¼®Tool°æÇè( COMSOL¶Ç´ÂCFD ACE+ )


¿ì´ë»çÇ×
µ¿Á¾¾÷°è ¿ì¼± ä¿ë
-. Plasma Simulation´Ù¼ö °æÇèÀÚ
¡î¿µ¾î ¿ø¾î¹Î ¼ÒÅë °¡´ÉÀÚ
Core tech Center Çù¾÷
-. Plasma CTC
Plasma °ü·Ã ¼³ºñ ¶Ç´Â ¼Ò½º °³¹ß¿¡ ÇÊ¿äÇÑ °³³ä ¹× °¡´É¼º Æò°¡
¾ç»ê¿¡¼­ »ç¿ë ÁßÀÎ Plasma°ü·Ã À̽´¸¦ ÇØ°áÇÏ´Â ¼Ö·ç¼Ç Á¦°ø
-. Simulation CTC
¼³ºñ °³¹ßÀ̳ª À̽´¸¦ ÇØ°áÇÒ ¶§ SimulationÀ» »ç¿ëÇÏ¿© ¹æÇâ ¶Ç´Â ¹æ¾È ¼³Á¤¿¡ µµ¿ò
[±Ù¹«Áö] ¿ëÀÎ (¾çÁö)

[ÀÚ°Ý¿ä°Ç]

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±Ù¹«Á¶°Ç

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  • [ó¿ì ¹× º¹¸®ÈÄ»ý]


     ¤· µ¿Á¾¾÷°è ÃÖ°í ¼öÁØ ÀÓ±Ý [ÃÑ¿¬ºÀÀÌ ³ôÀº Àӱݱ¸Á¶]
    ¤· Á¤±â ¼º°ú±Þ Áö±Þ (±âº»¿¬ºÀÀÇ ÃÖ´ë 50%/Ò´)
    ¤· ¼±ÅÃÀû º¹ÁöÆ÷ÀÎÆ® Áö±Þ (120¸¸/Ò´, ºÐ±âº° Áö±Þ)
    ¤· ÀÚ³à ÇÐÀÚ±Ý Áö±Þ (°íµîÇб³/´ëÇб³ Áö¿ø)
    ¤· º»»ç/¿¬±¸¼Ò »ç³» ½Ä´ç ¿î¿µ (Á¶/Áß/¼®½Ä ¹«»ó Á¦°ø)


ÀüÇü´Ü°è ¹× Á¦Ãâ¼­·ù

  • ÀüÇü´Ü°è: ¼­·ùÀüÇü > ¸éÁ¢ÁøÇà > ÃÖÁ¾½É»ç > ÃÖÁ¾ÇÕ°Ý
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Á¢¼ö¹æ¹ý

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